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高純氧氣

高純氧氣純度：99.999%。常用于半導體制造用化學氣相沉淀、集成電路制造用等離子蝕刻、氧化、擴散、標準氣、校正氣，零點氣、在線儀表用載氣、標準氣、光導纖維的制備用氣。